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      产品概览 技术规格 资料下载 行业应用

      适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)

      VibroMet® 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层,从而得到无应力的制备表面,而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。

      结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光,


      不同于传统的振动抛光机,VibroMet 2可以产生几乎完全水平方向的振动,*大限度地提高了样品接触抛光布的时间。

      用户设定好程序后就可以离开,样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。





      快速去除样品表面变形层

      ? 水平运动温和地抛光样品不引起机械应力

      ? 所得样品表面适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)

      ? 对混合材料和不均匀样品都能达到上乘的制备效果



      无需使用危险电解液

      ? 替换电解抛光仪和危险电解液

      ? 结合VibroMet 2 与MasterMet二氧化硅抛光液,MicroCloth 抛光布对样品进行化学-机械抛光



      设定后无需过多留心

      ? 样品在抛光盘中可自动开始振动抛光

      ? 12in [305 mm]直径抛光盘可同时制备多达18个样品



      VibroMet? 2 振动抛光机

      ? 振动抛光机用于在机械制备后去除剩余的轻微变形,以显现无应力的表面,而不必使用电解抛光所需的危险的电解液

      ? 将VibroMet 2 和MasterMet? 2 胶体二氧化硅配合使用,进行化学机械抛光的试样表面可满足电子背散射衍射(EBSD)或原子力显微镜(AFM) 分析

      ? 和*终抛光液配合使用(pg.69-70)

      ? 磨盘尺寸为12in [305mm]