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      MC1000离子溅射仪


      由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤

      其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。



      主要特点:

      1. 操作方便且有记忆功能,首 创LCD触摸屏控制技术,可存储五种处理方案;
      2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀;
      3. 通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。


      应用领域:
      离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。